半导体工艺测试设备应用技术研究

半导体工艺根据产品需要会有不同的工艺流程和对应的工艺参数,测试设备实现工艺质量的实时监控。分析半导体工艺线测试设备的需求,做测试应用技术研究。     

基于半导体工艺的设备调平技术

半导体工艺基本流程和要求,调平在各主要工艺中的必要性。调平分为调与测2个步骤,几种常用测平工具和方法和在工艺调平中的应用。     

半导体淀积工艺及其设备技术研究

薄膜工艺是半导体工艺重要组成部分,较广泛的采用物理气相沉积和化学气相沉积方法。通常把PECVD才直接称为淀积工艺,其工艺受多方面因素影响,通过工艺和设备技术的研究,提高工艺可靠性,减少设备故障。