| 中国半导体产业技术创新效率研究——基于三阶段DEA和Tobit模型 |
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| 引用本文： | 刘际陆,张诚.中国半导体产业技术创新效率研究——基于三阶段DEA和Tobit模型[J].技术经济与管理研究,2021(10):14-19. |
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| 作者姓名： | 刘际陆 张诚 |
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| 作者单位： | 浙江农林大学经济管理学院,浙江杭州311300;长江师范学院财经学院,重庆408100 |
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| 摘 要： | 文章基于半导体产业技术创新的主要特点,剔除环境作用、随机干扰等影响,运用三阶段DEA模型对中国40家半导体企业的技术创新效率进行分析与评价.研究结果表明,中国半导体上市公司整体创新效率不高,主要是纯技术效率不高,这与中国半导体产业尚处于成长期有关.在剔除环境因素与随机干扰后,上市公司创新效率有了明显提升.科技市场环境和政府对科技支持能降低研发投入冗余,促进技术创新.经济发展虽能够吸引更多的研发投入,但并不能显著提高创新效率.科技发展水平与研发人员投入冗余正相关,与研发经费投入冗余负相关,这表明研发经费满足了科技发展,但研发人员的"质"跟不上科技创新.
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| 关 键 词： | 环境因素 半导体产业 技术创新效率 三阶段DEA 研发投入 |
Research on Technology Innovation Efficiency of China's Semiconductor Industry:Analysis based on Three-stage DEA and Tobit |
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| LIU Ji-lu,ZHANG Cheng.Research on Technology Innovation Efficiency of China's Semiconductor Industry:Analysis based on Three-stage DEA and Tobit[J].Technoeconomics & Management Research,2021(10):14-19. |
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| Authors: | LIU Ji-lu ZHANG Cheng |
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