电子级多晶硅生产中间产品氯硅烷中痕量磷含量检测方法进展 |
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引用本文: | 杨晓青,薛心禄,岳峥,李蔚.电子级多晶硅生产中间产品氯硅烷中痕量磷含量检测方法进展[J].化工管理,2024(10):59-61. |
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作者姓名: | 杨晓青 薛心禄 岳峥 李蔚 |
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作者单位: | 2. 青海新能源材料与储能技术重点实验室 |
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摘 要: | 采用改良西门子法在生产电子级多晶硅过程中,精馏中间产物氯硅烷通入多晶硅还原炉,通过氢气还原氯硅烷生产多晶硅,其中氯硅烷中存在的各种形式的磷作为施主杂质,对电子级多晶硅产品质量影响重大。文章系统阐述电子级多晶硅生产中间产品氯硅烷中痕量磷含量的检测方法及研究进展,通过比较各种氯硅烷中痕量磷含量杂质检测方法的优缺点,以供日常检测参考。
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关 键 词: | 磷化氢 磷 氯硅烷 多晶硅 |
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