设备综合效率在真空刻蚀机上的应用

真空刻蚀机为一种昂贵的晶圆加工设备,在半导体领域有着广泛的应用,其设备主要用来加工晶圆上面的图形,从而制造电子元器件,因此,这种设备的价格也是非常昂贵的。文章首先通过介绍真空刻蚀机的基本构造以及工作原理,了解设备的运行及加工操作特点,然后通过对公司关键设备真空刻蚀机进行设备综合效率(OEE)工具的使用,有效地分析真空刻蚀机生产效率低下的原因,从而有针对性地进行改善与改造,加上执行TPM(Total Preventive Maintenance)来提升其设备综合效率,以达到生产线整体的生产效率提升的目的。