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浅谈半导体材料制备
引用本文:徐胜.浅谈半导体材料制备[J].中国对外贸易(英文版),2012(6):424-424.
作者姓名:徐胜
作者单位:长江大学物理学院
摘    要:文章阐述了一些制备ZnO纳米半导体材料的常用技术,如模板制备法、物理气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、金属有机化合物气相沉积,并分析了各种方法的优缺点。

关 键 词:ZnO  模板制备法  PVD  PLD  金属有机化合物气相沉积
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