ICP刻蚀技术及其在MEMS中的应用

ICP技术是微纳加工中的常用技术之一，由于在加工过程中的可控性较高，因此在MEMS的加工中有着越来越重要的地位。本文主要对硅基MEMS器件的刻蚀原理进行分析，并简要介绍在加工过程中如何对过程进行控制已达到想要的结果。     

氮化硅的刻蚀及其它应用

氮化硅介质作为集成电路或半导体功率器件的介质层,具有掩蔽杂质沾污的作用,通过一系列试验研究,找到了氮化硅的干法、湿法刻蚀工艺,对半导体器件的性能有很好的提高,并且通过试验,还发现氮化硅具有透明耐摩擦的特性,可用于制作掩膜版的保护膜。     

位置随动系统在ITO薄膜激光刻蚀设备中的运用

ITO薄膜激光刻蚀设备是由激光对附着在玻璃及PETFilm上的ITO薄膜实施剥离加工的精密尖端设备,与其他激光设备一样,在其工作过程中对激光的开关控制是很重要的一环。本文重点介绍了位置随动系统在控制激光器中的应用.以及此系统的优势所在。     

新产品

匡威帆布鞋以FC游戏机上的第一代超级玛莉作为绘制蓝本,匡威限定制作N-Wool Hi帆布鞋。充分利用鞋帮的立体弧度,以及匡威帆布鞋在脚踝和鞋舌上的铭牌,巧妙融合在超级玛莉的卷轴背景之中。欧米茄海马系列1948同轴"伦敦2012"限量版腕表这款腕表于伦敦奥运会开幕式倒计时一周年当日正式发布。是欧米茄首款海马系列自动腕表的复刻版,60多年前的时尚风格延续至今,彰显永恒经典魅力。39毫米的精钢表壳经过抛光和磨砂打磨,配以抛光表圈和表耳,表冠上刻蚀有古典风格的欧米茄标志Ω。18K黄金材质的表背刻蚀     

干法刻蚀工艺的优化和开发

文章阐述了二氧化硅干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数。应用正交实验,优化了蚀刻速率、均匀性、选择比等主要蚀刻参数,得出主要工艺参数的设置方法和理想条件漂移时的调整方法以及优化选择比的蚀刻方案。     

离子束刻蚀高基频石英谐振器的研究与应用

本文介绍了离子束刻蚀设备的性能及最佳工作参数的选择,石英谐振器设计,频率调整和封装形式,以及等效参数测量,振动冲击试验和储存老化试验。最后介绍了高基频石英谐振器在低噪声微波振荡器、调频振荡器和宽带滤波器中的应用,取得了满意的结果。     

学会共赢

在世界半导体产业，中微报导体称得上当之无愧的技术型领军者：其研发出的12英寸65纳米，40纳米到28纳米的等离子体介质刻蚀设备，已进入9个亚洲一流的半导体芯片生产线。而如今，全球只有美国，日本及欧洲的极少数几家年产值几十亿上百亿的跨国公司能制造这些设备。     

石英晶体离子刻蚀微调原理与应用

SMD石英晶体谐振器与石英晶体振荡器在现代通讯领域尤其数字家电产品中广泛应用。用实际机型探讨石英晶体元器件生产中刻蚀微调方式的原理与实践应用,以提高成品率和生产效率展开论述。     

2.1305GHz高频反台温补晶体振荡器的研制

介绍了一种应用离子束刻蚀技术制作的三次泛音355MHz高频反台晶体谐振器，制作2．1305GHz温补晶体振荡器（TCXO）的方法。经测试，该温补晶体振荡器性能优良，且体积和功耗都较小，适用于导弹、无人机、卫星等飞行器。     

集成电路基本工艺

当今社会已进入信息技术时代,集成电路已经被广泛应用于各个领域,典型的集成电路制造过程可表示如下:在此,我们重点是讨论集成电路芯片加工过程中的一些关键手艺.集成电路基本工艺包括基片外延生长、掩模制造、曝光技术、刻蚀、氧化、扩散、离子注入、多晶硅淀积、金属层形成.