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| 一回路冷却剂中活性硅测量干扰因素的消除 | |
| 引用本文： | 陈奕峥.一回路冷却剂中活性硅测量干扰因素的消除[J].大众标准化,2022(1):178-180. |
| 作者姓名： | 陈奕峥 |
| 作者单位： | 三门核电有限公司,浙江 台州 318000 |
| 摘 要： | 活性硅是加锌核电站一回路冷却剂的控制参数,三门核电化学采用硅钼蓝分光光度法对活性硅的浓度进行检测.由于冷却剂中添加了化学品,增大了分光光度法的吸收背景,影响了该方法对于活性硅测量的准确性.通过对冷却剂中干扰因素进行排查验证,确认氢氧化锂为主要干扰因素,并通过基体匹配法消除了干扰因素,方法回收率可达97.3％～99.8％... |
| 关 键 词： | 活性硅 硅钼蓝分光光度法 冷却剂 锂 |
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