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| 紫外激光器增透膜的制备 | |
| 引用本文： | 杨洁,付秀华,唐浩龙,王正凤.紫外激光器增透膜的制备[J].商业科技,2011(28):70-70. |
| 作者姓名： | 杨洁 付秀华 唐浩龙 王正凤 |
| 作者单位： | 长春理工大学光电工程学院 |
| 摘 要： | 依据薄膜光学的基本理论，选取Al2O3与MgF2作为薄膜材料，在JGS1基底上，采用离子源辅助沉积的真空镀膜方法，制备出工作波段在240nm～280nm间，具有高透射率大于99．5％的光学薄膜。通过调整工艺参数和膜系设计，改善了薄膜的激光损伤阈值。 |
| 关 键 词： | 光学薄膜 紫外增透膜 离子辅助沉积 |
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