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| 国内防伪技术的若干特色与新的生长点——访北京理工大学教授哈流柱 | |
| 引用本文： | 许月.国内防伪技术的若干特色与新的生长点——访北京理工大学教授哈流柱[J].中国品牌与防伪,2011(2):26-29. |
| 作者姓名： | 许月 |
| 摘 要： | 哈流柱是北京理工大学教授,曾讲授物理光学、波动光学、光学全息及信息处理等课程,参加编写《矩阵光学》(第四章偏振光矩阵)、《现代仪器仪表技术与设计》(第五篇第七章全息光学技术)。参加多项科研,其中《偏光图象处理仪》获1983年北 |
| 关 键 词： | 防伪技术 防伪特征 通用技术条件 技术产品 防伪标识 生长点 理工大学 物理光学 流柱 全息技术 |
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