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| TiN、TiNC和TiC薄膜的制备及其性能研究 | |
| 引用本文： | 刘杨.TiN、TiNC和TiC薄膜的制备及其性能研究[J].天津商学院学报,2005,25(3):17-19. |
| 作者姓名： | 刘杨 |
| 作者单位： | 天津商学院基础课教学部,天津300134 |
| 摘 要： | 用大功率偏压电源的多弧离子镀技术制备TiN、TiC和TiNC陶瓷薄膜。经AES分析测试，所制备的TiN、TiNC和TiC成分稳定，沿深度分布均匀。XRD分析表明，TiN和TiCN涂层的结构在TiN(111)晶面都有强烈的择优取向：TiC薄膜为非晶结构，表面形貌较粗糙且不均匀，膜层的宏观耐磨性能与其表面生成形貌有直接联系。 |
| 关 键 词： | 多弧离子镀 薄膜 耐磨性能 |
| 文章编号： | 1001-0262(2005)03-0017-03 |
| 修稿时间： | 2004年12月22 |
Synthesis and Properties of TiN, TiNC, TiC Coatings |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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