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| 勇于创新 引领微电子屡创辉煌——记刘玉岭及其发明成果 | |
| 作者姓名： | 马云川 |
| 摘 要： | <正>他从事科研工作40余年,为微电子发展作出了创造性贡献;他集发明者、科学家于一身,大大提高了科研成果的转化率;他被人们称为发明家,屡获国家发明大奖;他极具创新性思维,走出了一条属于自己的人生之路。创新IC平坦化技术与材料达国际领先水平碱性化学机械平坦化技术被认为是最具发展潜力的低强度Cu/low-k表面低压力平坦化技术之一,目前全世界已花数亿元巨资研发的电化学抛光技术(ECMP),仍难以应用。刘玉岭早在2000年就创造性 |
| 关 键 词： | 平坦化技术 微电子 创造性贡献 抛光技术 人生之路 创新性思维 发明者 科研工作 电化学抛光 突出贡献 |
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