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| 高纯八甲基环四硅氧烷制备工艺研究进展 | |
| 作者单位： | ;1.洛阳中硅高科技有限公司;2.中国恩菲工程技术有限公司 |
| 摘 要： | 高纯八甲基环四硅氧烷广泛应用于光通讯行业,更是集成电路等电子工业生产中不可缺少的基础和支撑材料之一。文章重点介绍了高纯八甲基环四硅氧烷(D4)的除杂提纯工艺,包括精馏法、络合精馏法、结晶-真空抽滤法、金属去除剂除杂法,分析了各个方法的优点及限制其广泛应用的制约因素,最后展望了高纯八甲基环四硅氧烷提纯除杂技术未来的发展方向。 |
| 关 键 词： | 八甲基环四硅氧烷 精馏 络合精馏 结晶真空抽滤 金属去除剂 |
Research Progress in Preparation of High Purity Octamethylcyclotetrasiloxane(D4) |
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| Keywords: | |