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| 中国海外专利申请增长的影响因素研究——基于面板负二项模型的实证分析 | |
| 引用本文： | 马凌远,尤航.中国海外专利申请增长的影响因素研究——基于面板负二项模型的实证分析[J].连锁与特许,2021,26(4):3-16. |
| 作者姓名： | 马凌远 尤航 |
| 作者单位： | 郑州航空工业管理学院经济学院,河南 郑州 450046 |
| 基金项目： | 河南省教育厅人文社会科学研究一般项目 |
| 摘 要： | 知识产权强国战略背景下,专利"走出去"对我国强化知识产权创造、保护及运用具有重要意义.基于2000-2015年中国海外专利申请数据,利用面板负二项模型实证检验了中国海外专利申请的影响因素,探讨了中国海外专利申请快速增长的原因.研究表明:中国总体研发支出规模、知识产权保护水平对海外专利申请增长具有积极影响,其为中国专利国... |
| 关 键 词： | 海外专利申请 影响因素 面板负二项模型 中国 |
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