| 自支撑超快电子衍射薄膜制备方法的研究 |
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| 引用本文： | 吴建军,田进寿,刘虎林.自支撑超快电子衍射薄膜制备方法的研究[J].无锡商业职业技术学院学报,2010,10(6):91-93. |
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| 作者姓名： | 吴建军 田进寿 刘虎林 |
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| 作者单位： | [1]无锡商业职业技术学院电子工程系 [2]江苏省无线传感系统应用工程技术研发中心,江苏无锡214153 [3]中国科学院西安光学精密机械研究所,陕西,西安710068 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金青年基金支持课题，江苏省青蓝工程资助 |
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| 摘 要： | 具有自支撑能力的、具备晶格结构的超薄薄膜制作技术对超快电子衍射实验至关重要,薄膜的质量直接影响到后续实验的开展。文章重点介绍了超快电子衍射系统对薄膜样品的特殊要求,以及利用磁控溅射方法制作22.9nm薄膜的工艺过程。
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| 关 键 词： | 超快电子衍射 薄膜 自支撑 溅射 |
Manufacturing Method of Self-Supporting Thin Film for Ultra-fast Electron Diffraction System |
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| WU Jian-jun,TIAN Jin-shou,Liu Hu-lin.Manufacturing Method of Self-Supporting Thin Film for Ultra-fast Electron Diffraction System[J].Journal of Vocational Institute of Commercial Technology,2010,10(6):91-93. |
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| Authors: | WU Jian-jun TIAN Jin-shou Liu Hu-lin |
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