熔铸法制备贫铀溅射靶片

为制备高纯度、高密度,高表面光洁度,内部晶粒尺寸细小且均匀分布的贫铀溅射靶片,开展了真空感应精炼、挤压、墩粗热加工、真空热处理工艺试验,制备了实心单质圆柱形贫铀溅射靶片。分析结果表明:贫铀溅射靶片杂质含量少,内部晶粒尺寸20μm,晶粒分布均匀,密度18.90g/cm3,柱面粗糙度Ra0.8μm,端面粗糙度0.4μm,完全满足磁控溅射铀薄膜对贫铀溅射靶材的技术要求。