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| PVD镀Al膜工艺研究 | |
| 引用本文： | 唐云,罗海辉,谭灿健,彭新华.PVD镀Al膜工艺研究[J].设备管理与维修,2020(1). |
| 作者姓名： | 唐云 罗海辉 谭灿健 彭新华 |
| 作者单位： | 株洲中车时代电气股份有限公司,湖南株洲 412001;株洲中车时代电气股份有限公司,湖南株洲 412001;株洲中车时代电气股份有限公司,湖南株洲 412001;株洲中车时代电气股份有限公司,湖南株洲 412001 |
| 摘 要： | 介绍PVD的原理,描述PVD设备的结构原理和性能参数,通过实验研究了PVD镀Al膜的工艺,分析了磁控溅射中溅射时间、溅射功率、靶基距、溅射温度和靶材对最终Al膜质量的影响,为实际应用中参数设置和工艺改进提供了参考。 |
| 关 键 词： | PVD 磁控溅射 Al膜 靶材 |
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