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| 金刚石膜制备及应用 | |
| 作者姓名： | 侯立 张柏春 |
| 作者单位： | 北京天地东方金刚石技术有限责任公司 |
| 摘 要： | 化学气相沉积（CVD）金刚石是近年来发展起来的一种低压生长连续性金刚石（金刚石膜）技术。由于它解决了金刚石的尺寸问题，从而能够实现金刚石的机械、热学、电学、声学、光学、半导体的物理和化学等许多优异特性的应用，具有广阔的应用前景和潜在市场。国家“八六三”高科技计划对该项目予以有力的支持，自1987年国家建材局人工晶体研究所承担该项目的研究至今，解决了从金刚石膜生长直至工具产品应用的各种关键技术，并且实现了成果的应用转化，加快了金刚石膜材料应用产业化的进程。金刚石膜生长技术是该成果的核心。本项目开发了适… |
| 关 键 词： | 金刚石 薄膜 性能 制备 经济技术指标 |
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