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日英联合开发成功新型溅镀机离子枪
摘 要:
日本ULVAC-PHI公司于2004年11月12日宣布,与离子枪生产商英国Ionoptika公司联合开发出了以C60为离子源的溅镀机离了枪,并已经开始销售。其特点是能够在不破坏成份和结构的情况下以1nm(深度方向)的误差,对有机薄膜样本的表面进行切削或溅射清除。该公司表示“可对有机薄膜进行低损伤蚀刻,这在此前是做不到的”。
关 键 词:
溅镀机离子枪
X射线技术
碳60
分子结构
电子束
有机薄膜
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