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多晶硅晶化技术的分析
引用本文:王增平.多晶硅晶化技术的分析[J].中国对外贸易(英文版),2011(8).
作者姓名:王增平
作者单位:黑河边境经济合作区大项目办公室
摘    要:低压化学气相沉积、固相晶化、准分子激光晶化、快速热退火、金属诱导晶化、等离子体增强化学反应气相沉积等是目前用于制备多晶硅薄膜的几种主要方法.它们具有各自不同的制备原理、晶化机理、及其优缺点.

关 键 词:多晶硅  晶化

Poly crystallization technology
Zengping Wang.Poly crystallization technology[J].China's Foreign Trade,2011(8).
Authors:Zengping Wang
Institution:Zengping Wang
Abstract:The paper is mainly about the analysis of the poly crystallization technology.
Keywords:
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