下一代光刻技术

本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析，重点描述了纳米压印光刻技术、极紫外光刻技术、无掩模光刻技术、原子光刻技术、电子束光刻技术等的原理、现状和优缺点，并展望了未来数十年的主流光刻技术。