半导体烘烤工艺及其设备技术

烘烤工艺是半导体的重要工艺,贯穿于整个光刻过程。半导体光刻工艺流程中很大一部分由烘烤工艺占据,对最后形成图形的质量非常关键。典型的烘烤设备采用热板和烘箱,温度精度和均匀性必须经过计量。