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DSW光刻机中的最短时间自动对准系统
引用本文:王文平,刘永强,罗培成,王彦池.DSW光刻机中的最短时间自动对准系统[J].河北工业科技,1989(1).
作者姓名:王文平  刘永强  罗培成  王彦池
作者单位:河北机电学院自动化系,河北机电学院自动化系,河北机电学院自动化系,河北机电学院自动化系
摘    要:本文研究了最短时问控制系统在 DSW 光刻机自动对准系统中的应用问题。研究结果表明,这种控制系统能很好地满足系统的性能指标,其对准时间很短,t_s≤0.14秒,并且具有较高的对准精度,σ≤0.01μm(微米)

关 键 词:自动对准系统  最短时间控制  动态规划

The Time-optimal Auto-alignment System in DSW Photolithographic Process
Wang Wenping Liu Yong Qiang Luo Peicheng Wang Yanchi.The Time-optimal Auto-alignment System in DSW Photolithographic Process[J].Hebei Journal of Industrial Science & Technology,1989(1).
Authors:Wang Wenping Liu Yong Qiang Luo Peicheng Wang Yanchi
Institution:Department of Automation
Abstract:Application of time-optimal auto-alignment system in DSW photolithog- raphic process is investigated in this paper.The results show that the system possess a good performance. Its alignment time is smaller than ts=0.14 second,and its alignment accuracy is superior to σ=0.01μm.
Keywords:Auto-alignment  Time-optimal control  Dynamic programming
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