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| 浅谈半导体光刻技术的发展趋势 | |
| 引用本文： | 樊乡.浅谈半导体光刻技术的发展趋势[J].中国高新技术企业评价,2009(6). |
| 作者姓名： | 樊乡 |
| 作者单位： | 上海交通大学微电子学院,上海,200030 |
| 摘 要： | 文章通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议。 |
| 关 键 词： | 半导体光刻技术 PSM技术 离子束曝光技术 极紫外光刻技术 |
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