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电子工业的新型材料——G21水溶型光致抗蚀干膜
引用本文:何秀珍.电子工业的新型材料——G21水溶型光致抗蚀干膜[J].国际商务研究,1985(1).
作者姓名:何秀珍
摘    要:本文概述了G21水溶型光致抗蚀干膜(简称G21干膜)光敏性的提高以及干膜光敏性的各种影响因素;介绍了G21于膜的粘结聚合物的改进和胶液组成;文中还讨论了G21干膜的基本性能和应用工艺的问题。

关 键 词:光致抗蚀干膜  研制  应用
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