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| 基于半导体工艺的设备调平技术 | |
| 引用本文： | 蔡颖岚,邓学文,全晓辉,杨滨.基于半导体工艺的设备调平技术[J].设备管理与维修,2018(1). |
| 作者姓名： | 蔡颖岚 邓学文 全晓辉 杨滨 |
| 作者单位： | 重庆声光电有限公司; |
| 摘 要： | 半导体工艺基本流程和要求,调平在各主要工艺中的必要性。调平分为调与测2个步骤,几种常用测平工具和方法和在工艺调平中的应用。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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